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米磊:国产光刻机,如何避免闭门造车式创新?
首台国产28纳米工艺浸没式光刻机有望交付
国际半导体产业协会(SEMI)公布的数据显示,2020年全球半导体生产设备的销售达到了712亿美元,较2019年的598亿美元增加114亿美元,同比增长19%。中国大陆市场的设备销售额比上年增长39%,达到187.2亿美元。由5G的普及和新冠肺炎疫情导致的居家办公需求,半导体代工企业的投资旺盛。
我国在光刻机方面的技术积累和人才储备相对不足,虽无法制造高端光刻机,但可以制造一些低、中端的光刻机。
2008年起,我国开始重视光刻机的研发。为推动我国集成电路制造产业的发展,国家决定实施科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”项目(又称“02专项”)。在该项目下,我国研究团队一路攻坚克难,国产首套90纳米高端光刻机已经研制成功。
2019年4月,武汉光电国家研究中心甘棕松团队通过2束激光,在自研的光刻胶上,突破光束衍射极限的限制,并使用远场光学的办法,光刻出最小9纳米线宽的线段。该成果一举实现光刻机材料、软件和零部件的三大国产化。
2020年6月,上海微电子设备有限公司透露将在2021—2022年交付首台国产28纳米工艺浸没式光刻机。这意味着国产光刻机工艺从以前的90纳米一举突破到28纳米。
虽然国产28纳米光刻机与已面世的5纳米顶尖制程存在较大差距,但常见的射频芯片、蓝牙芯片、功放芯片、路由器上的芯片、各种电器的驱动芯片等非核心逻辑芯片,仍采用28~90纳米工艺。
在光刻工艺进入28纳米以下制程之后的较长一段时间里,16纳米和14纳米制程的成本一度高于28纳米,与摩尔定律的运行规律相反,这也使得28纳米制程工艺极具性价比。在实际应用中,28纳米光刻机不仅能用来生产28纳米芯片,更有望通过多重曝光的方式生产14纳米、10纳米、7纳米芯片。尽管我国自主光刻机与外国先进水平仍有不小代差,但未来可期。
2020年7月,中国科学院上海光机所在计算光刻技术研究中取得进展。关键图形筛选技术是决定光源掩膜优化技术(SMO——主要计算光刻技术之一)速度与效果的关键技术。
中科院上海光机所信息光学与光电技术实验室提出了一种SMO关键图形筛选技术,并联合中科院微电子所研究团队,利用国际主流商用计算光刻软件进行了仿真验证,结果表明该技术优于国际同类技术水平。
避免闭门造车式创新:全面发力实现国产光刻机和半导体的突破
当前,全球半导体产业正在发生以5G、物联网为标志的第三次大转移,为我国半导体产业崛起提供了机遇。产业转移叠加安全需求,半导体国产化趋势明确。
我国电子行业仍大规模依赖美国技术,尤其是中上游对外依赖度高,半导体材料与设备国产化率平均不足20%。尤其是芯片、射频器件和FPGA(现场可编程门阵列)等核心元器件,仍面临着美国的大规模垄断。
随着摩尔定律逐渐无以为继,通过快速技术升级提升半导体供应能力的路线难以走通,全球对半导体的需求却随着人工智能、5G等新一代技术加速部署,以及数据中心的扩张而快速增长,半导体行业供需关系出现倒挂,未来半导体产业的地位越发关键,对半导体的投资也将迎来黄金时刻。
此外,技术更迭的速度逐步加快,在对半导体加大投资的过程中,须对产业前景做好预判,防止出现半导体行业成果出现后赛道被抛弃的局面。
发挥体制优势,建立协同的投资和发展模式。我国拥有“集中力量办大事”的体制优势,在市场经济条件下,也应发挥社会资本的重要作用,坚持国家资本和社会资本双管齐下投资产业发展。
相对于国家资本而言,社会资本对行业具有天然的亲和性,更贴近行业现状,对动向的洞悉更敏锐,也更容易实现技术突破。利用国家大基金等资本的带动作用,引导社会资本深入半导体产业,布局先进技术,更能推动产业整体进步。
对于光刻机等技术要求高、研发投入大的领域,可以由国家推动,仿照荷兰ASML公司构建产业同盟。即以最先进的半导体技术为目标,以实用为导向,拉拢最优质、对技术应用最了解的客户,与世界领先的供应商合作,通过利益共同体的模式带动产业发展。这就要求我国在专注核心技术的前提下坚持全球范围内的开放合作,通过对整个产业链的开放合作降低技术研发和应用成本,促进技术快速迭代升级。
坚持人才托举。我国半导体人才培养应坚持以人为本,参照世界半导体行业发达地区的人才从业模式,创造最适合、最能吸引人才的工作和生活环境,对中国籍、华裔和外国人才一视同仁,向欧洲、日本等国家和地区的人才敞开国门,鼓励国内外人才以各种形式投身我国半导体行业建设,发挥人才的溢出效应。
对人才引进不能只是刻板地引入,更要尝试“外放”式人才引进,只要人才为我所用,可通过海外研究基地等模式挖掘人才,并将国内人才送至海外基地培养,坚持引进与培养“两条腿走路”。
避免闭门造车式创新。日本尼康公司在与荷兰ASML公司的竞争中失败的一个重要原因,是尼康坚持自产自研的发展模式;不论是光刻机中的零件,还是关键技术,尼康都希望通过自主研发获得完全掌控。ASML则背靠荷兰飞利浦,以欧洲精密机床和仪器为基础,以美国先进技术为核心,与台积电等制造公司紧密合作,坚持互利共赢、开放合作的发展模式。
在半导体这个对技术要求苛刻、资金需求巨大的行业内,闭门造车式创新不仅成本过重,而且后继乏力,更难以形成正向的产业循环,我国应引以为戒。
《硬科技:大国竞争的前沿》,国务院发展研究中心国际技术经济研究所、西安市中科硬科技创新研究院著,中国人民大学出版社2021年10月。
- 原标题:美日推动半导体产业链回流,国产光刻机和半导体的未来 本文仅代表作者个人观点。
- 责任编辑: 吴立群 
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