科工力量：LPDDR5内存韩美企业“三雄争霸”，中国进展如何？

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科工力量：LPDDR5内存韩美企业“三雄争霸”，中国进展如何？
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2020-02-19 07:27:11 字号：A- A A+ 来源：观察者网

最后更新: 2020-02-19 10:31:29

韩美企业“三雄争霸”

与2012年的LPDDR3，2014年的LPDDR4以及2016年的LPDDR4x类似，LPDDR5在今年商用是一个正常的技术迭代。而这背后，在智能手机更高性能和容量需求情况下，是韩国的三星、SK海力士以及美国的美光三家巨头正在全球LPDDR5这一最新技术领域激烈竞争。

三星在2018年就开始向LPDDR5标准过渡，开发出业界首款基于第二代10nm制造工艺(1Y nm)的8Gb LPDDR5，2019年7月再次宣布推出业内首款12Gb LPDDR5，并基于8颗12Gb封装量产12GB LPDDR5。此外，三星还将在今年开发16Gb LPDDR5。

2月12日凌晨，三星发布了新一代旗舰智能手机Galaxy S20系列，整体配置上有不小升级。其中，内存方面全球首发LPDDR5，三星S20/S20+ 4G版本采用8GB LPDDR5 RAM，5G版本为12GB LPDDR5 RAM，S20 Ultra则独享12/16GB LPDDR5 RAM。

与此同时，美光也在争抢LPDDR5“全球首发”。2月6日，美光宣布已交付全球首款量产的LPDDR5，并透露小米10将首发应用该芯片。但由于小米10推迟至2月13日线上发布，这一“全球首发”被三星提前一天截胡，而雷军也称小米10同时搭载三星和美光LPDDR5内存。

美光LPDDR5采用的是1Y nm光刻技术，将通过基于UFS的多芯片封装(uMCP5)技术应用于智能手机，且计划今年晚些时候推出1Z nm级的产品。整体而言，美光计划引入至少四种以上的10nm级制造工艺：1Z、1α、1β和1γ，从而使其10nm级制造工艺总数超过6种。

美光技术路线图

目前，美光正将1Y nm工艺用于制造12Gb LPDDR4X、16Gb DDR4和12Gb LPDDR5等多种产品，下一代1Z nm将用于生产16Gb LPDDR5以及DDR5存储器件。而在1Z nm节点后，美光计划开始使用1αnm和1βnm制造技术，并同时为1γnm技术的可行架构寻找路径。

韩国另一家公司SK海力士目前主要致力于提高1Znm工艺量产16Gb DDR4，且正在拓展到LPDDR5和HBM2E市场，计划在2020年规模量产。在今年1月举办的CES 2020上，SK海力士展示的LPDDR5芯片频率已达5500MHz，远远高于LPDDR4x-4667，而且功耗更低。

SK海力士在CES 2020上展示的LPDDR5存储芯片

整体而言，根据三星、美光、SK海力士的DRAM技术发展路线来看，从2019下半年开始，三大厂商均已陆续进入1Znm DRAM技术阶段。到2020年，随着单晶圆（Die）容量已可达到16Gb，预计有望基于8颗16Gb芯片封装量产16GB LPDDR5，进一步提高容量和性能。

在制造方面，为灵活管理和提高产能，三星正考虑从今年开始将12GB LPDDR5转移到平泽工厂。而美光计划对日本广岛工厂进行第二阶段投资，即建设F栋制造工厂用于量产1Znm工艺之后的1α、1β技术。未来随着各厂商产能逐渐放量，LPDDR5的商用步伐将会加快。

三星平泽工厂

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标签三星小米美光 DRAM LPDDR5 紫光长江存储合肥长鑫福建晋华 SK海力士
- 责任编辑: 陈辰
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