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中芯国际期内利润同比增超200%,梁孟松未现身财报会
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吕栋宁静致远。
最后更新: 2021-03-17 14:15:53“中国半导体的三个阶段”
1月23日,方正证券发布研报称,通过复盘近三年美国的三轮芯片封锁,总结出中国半导体发展的三个阶段:
第一轮封锁:2019年5月限制华为终端的上游芯片供应商,目的是卡住芯片下游成品;
第二轮封锁:2020年9月限制海思设计的上游晶圆代工链,目的是卡住芯片中游代工;
第三轮封锁:2020年12月限制中芯国际上游半导体供应链,本质是卡住芯片上游设备。
该券商认为,为了应对这种生存环境的巨变,中国半导体工业也进行三轮大级别的调整:
第一个阶段:终端厂带动上游设计和封测。2019年华为被美国列入实体清单后,将相当部分的芯片订单转移到国内“备胎”供应链,直接显著推动了国产芯片设计(模拟、数字、射频、存储)和封测公司收入、业绩的加速增长,这也是2019年开启的A股半导体牛市背后的原因。
第二个阶段:Fabless带动上游晶圆代工厂。在海外Fab厂不能为华为海思提供晶圆代工后,国产晶圆厂成为替代必选方案,中芯国际经过多年的发展,在国产Fabless巨头的通力配合下,已经在2020年量产14nmFinFET工艺,并向N+1节点过渡,这是中国集成电路行业历史性突破。
第三个阶段:晶圆厂带动上游设备和材料。在FinFET工艺陆续突破之际,2020年末美国新一轮实体清单直接指向中芯国际,因为半导体设备是晶圆厂的底盘,而美系设备商大约占据一条Fab产线的50%份额(PVD、刻蚀机、CVD、Imp、Clean、Furnace),AMAT、LAM、KLAC都是全球垄断级别的设备巨头,在先进节点工艺上依旧无可替代。但是在成熟工艺节点,国产和日本设备可以实现相当程度的替代。
方正证券认为,当下摆在中国半导体工业主要矛盾已经不是缺少工艺,而是缺少半导体设备和材料。
基于此,未来中国半导体将走向成熟工艺、走向双循环、走向根技术(半导体设备、材料)
1、由单纯追求先进工艺 -> 回归成熟工艺 (“新55nm”远大于“旧7nm”)
2、由外循环 -> 内外双循环(去A化,而不是国产化)
3、补短板由干技术 -> 根技术(设计、制造其实不是根技术)
方正证券2021年1月研报截图
事实上,近年来在国家政策和大基金的支持下,中国半导体设备和材料产业链已取得明显进展。
例如,根据公司新闻稿和券商研报,北方华创、中微公司、安集科技等已成为中芯国际供应商,供应产品包括化学机械抛光液、刻蚀机、沉积设备、清洗机、热处理设备等。
此外,南大光电可用于7nm芯片光刻胶已通过客户验证;沪硅产业填补了中国大陆12英寸半导体硅片产业化空白;国家02专项设定2020年12月验收193nmArF浸没式DUV光刻机,其制程为28nm。
本文系观察者网独家稿件,未经授权,不得转载。
- 责任编辑: 吕栋 
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