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可用于7nm芯片光刻胶通过客户验证,南大光电巨量收涨8%
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吕栋宁静致远。
最后更新: 2020-12-20 09:35:37观察者网·大橘财经讯(文/吕栋 编辑/尹哲)在集成电路制造领域,光刻机被称为是推动制程技术进步的“引擎”,而光刻胶就是“燃料”。
未来几年,随着中芯国际、长江存储、长鑫存储等晶圆厂进入产能扩张期,高端光刻胶的国产化替代迎来重要窗口。
12月17日晚间,南大光电公告披露,其控股子公司宁波南大光电材料有限公司(下称:宁波南大光电)自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户使用认证,可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点。
“本次产品的认证通过,标志着‘ArF光刻胶产品开发和产业化’项目取得关键性的突破,成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶,为全面完成项目目标奠定坚实的基础。”公告中写道。
南大光电内部人士今天在接受观察者网采访时透露,ArF光刻胶生产线已建成,可根据客户需要量产。
受上述消息影响,创业板上市的南大光电今天高开近14%,最终收涨8%,成交额接近16亿元,而该公司收盘时的市值为146亿元。
不过,需要注意的是,截至今年上半年,光刻胶业务还未给南大光电贡献营收。该公司坦言,ArF光刻胶存在稳定量产周期长、风险大等特点,后续是否能取得下游客户订单存在较多不确定性。
最近三年,南大光电净利润增速骤降,2019年扣非净利润仅为上市前的五分之一,而过去两年来该公司股价涨幅达523%。
公告截图
量产阶段仍存诸多风险
观察者网梳理相关资料发现,光刻胶是一种对光敏感的混合液体,可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。
依据使用场景,待加工基片可以是集成电路材料、显示面板材料或者印刷电路板(PCB)。
因此,按应用领域分类,光刻胶又可分为PCB光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。目前,国产光刻胶以PCB用光刻胶为主,显示面板、半导体用光刻胶供应量占比极低。
浙商证券2020年4月研报截图
作为技术难度最大的光刻胶品种,半导体光刻胶也是国产与国际先进水平差距最大的一类。
长时间以来,为满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求,光刻机不断通过缩短曝光波长的方式,提高极限分辨率。
目前,光刻机光源波长由紫外宽谱逐步缩短至g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm)、F2(157nm),以及最先进的EUV(<13.5nm)线水平。
本次南大光电通过客户认证的光刻胶,就是ArF光刻胶。
国元证券2019年1月研报截图
南大光电表示,ArF光刻胶材料可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺,广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、 AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等)。
认证评估报告显示,“本次认证选择客户50nm闪存产品中的控制栅进行验证,宁波南大光电的ArF光刻胶产品测试各项性能满足工艺规格要求,良率结果达标。”
南大光电认为,本次通过客户认证的产业化意义大。
“本次验证使用的50nm闪存技术平台,在特征尺寸上,线制程工艺可以满足45nm-90nm光刻需求,孔制程工艺可满足65nm-90nm光刻需求,该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。”公告中称。
至于为何选在50nm闪存产线验证,南大光电内部人士向观察者网表示,该公司产品分别在不同客户处验证,有逻辑有存储的。因为存储的先通过,就先公告,其他的还在努力中。
不过,该人士并未向观察者网透露,公告中的客户是国内或者国外厂商。
IC光刻流程图
目前,全球光刻胶市场基本被美日大型企业垄断,中国大陆内资企业所占市场份额不足10%。
2019年,日韩贸易争端中,日本就曾通过禁运光刻胶对整个韩国半导体行业造成打击。
为支持国内企业加大光刻胶开发力度,2000年以来,我国出台多项政策支持半导体行业发展。
2006年,国务院在《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》中提出《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目,因次序排在所列16个重大专项第二位,在业内被称为“02专项”。
公告显示,“ArF光刻胶产品开发和产业化”就是南大光电承接国家“02 专项”的一个重点攻关项目。
券商统计的信息显示,南大光电2017年承接的ArF光刻胶项目总投资额为6.6亿元,其中国拨资金1.9亿元,地方配套资金1.97亿元,使用上市时的超募资金1.5亿元及其他自筹资金。
该项目拟通过3年达到年产25吨ArF干式和浸没式光刻胶产品的生产规模,预计达产后年销售收入平均为1.48亿元,实现净利润0.6亿元,投资回收期6.8年(包含3年建设期),内部报酬率为18%。
截至今年上半年,光刻胶业务尚未给南大光电贡献营收。
该公司在公告中表示,ArF光刻胶产品与客户的产品销售与服务协议尚在协商之中。
“尤其是ArF光刻胶的复杂性决定其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险,不仅需要技术攻关,还需要在应用中进行工艺的改进、完善,这些都会决定ArF光刻胶的量产规模和经济效益。”
深交所互动易截图
- 责任编辑: 吕栋 
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