-
中科院光电所研制出实用深紫外光刻机
关键字: 中科院光电所实用深紫外光刻机中国科学院光电技术研究所网站7月27日消息,近日,由中科院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机(Mask aligner),光刻分辨力达到500nm。Mask aligner因使用方便、效率高、成本低,一直是使用面最广、使用数量最多的一种光刻设备。在现有的微纳加工工艺中,光刻所采用的波段是决定光刻分辨力的重要因素之一。长期以来,国产Mask aligner均采用紫外波段(350nm至450nm),分辨力只能做到1μm以上。而对于200nm至1μm的微纳器件复制,只能采用进口紫外投影光刻机,200nm以下分辨力则只能采用进口深紫外投影光刻机。该型设备的成功研制填补了国内商用化深紫外光刻机的空白,可低成本解决500nm以上器件的高效复制,具有很好的社会、经济效益。
光电所微电子专用设备研发团队积极响应客户需求,大胆创新,成功解决了低成本深紫外光源、深紫外高均匀性匀光技术、新型深紫外介质膜镀膜技术以及非球面准直技术等诸多难点。该型设备仅需通过更换滤光模块,便可实现紫外、中紫外波段、深紫外波段的相互切换。同时,该型设备以光电所URE-2000系列紫外光刻机为基台(已经销售550台,其中出口30多台),配有高精度对准模块、真空曝光模式、双面曝光模式、纳米压印模式、接近式模式、数字设定曝光间隙等诸多功能供用户选择或定制,能满足不同光刻工艺需求,该设备自动化程度高、操作十分方便、外形美观。该型设备的成功研制,是光电所光刻机团队将光刻工艺需求与设备研发紧密结合的产物,市场前景十分广阔。
研发团队还积极与潜在用户单位进行需求沟通和工艺探索,利用中紫外波段(峰值波长310nm)在光敏玻璃(FOTURANII)上完成了高深宽比结构的制备直接光刻,已经销售数台,并与德国肖特(SCHOTT)公司达成合作协议。
- 请支持独立网站,转发请注明本文链接:
- 责任编辑:于文凯
-
换一种方式,让国宝“回家” 评论 8矛头直指哈尔科夫,普京首次公开俄军意图 评论 132普京特地去了趟哈尔滨,东北-远东合作前景如何? 评论 179中俄联合声明重量级要点,不只有图们江出海口 评论 299首付、利率双降!央行打出重磅组合拳 评论 419最新闻 Hot
-
中俄联合声明重量级要点,不只有图们江出海口
-
中国废食用油也被刁难,主要美企发声
-
行政瘫痪?联合国、世行及18国大使联合致信越南总理
-
“抱歉我说了这么久,因为感觉就像在自己家里”
-
“史上最宽松首付政策”来了,年轻人的月供终于“可支付”?
-
“规模庞大”、“阵容豪华”,普京随行代表团中都有谁?
-
《联合声明》多次点名美国及其盟友,俄专家这样说
-
首付、利率双降!央行打出重磅组合拳
-
“伤势严重但情况稳定,能开口说话了”
-
美方污蔑:中国太大管不住自己,不能再有第二波“中国冲击”
-
“任他是拜登或特朗普,中国早就准备好了”
-
西门子:撇开中国,办不到
-
“美国对华加税,不一定要变成战争…”
-
印度担心:美国制裁中国,我们却遭殃
-
果然,他们放弃了
-
荷兰特朗普,又杀回来了
-