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余鹏鲲:国产光刻设备为何引起轩然大波 该如何宣传技术突破
关键字:这种观点无疑是大大夸大了此次自主光刻设备的技术优势,甚至有点盲目乐观的味道了。诚然此次自主光刻设备由于采用了表面等离子体技术,使得光源的波长与线宽之比大大提高。由激光直写、激光干涉等技术的2-4:1提升至现有的17:1。这意味着用该自主光刻设备生产半导体的光源成本将大大降低,同时还将绕过西方发达国家在半导体领域经营数十年的专利壁垒,并且新技术还有较大的潜力可以挖掘。
不过同时走一条新路也即意味着需要进行艰辛地探索,现有半导体制造经过几十年的发展已经相当成熟了。新制程的诞生除了带来功耗的降低之外,对芯片的性能提升的作用很小了。这意味着自主新光刻工艺很有可能只有少数玩家,很难形成席卷行业的潮流,也很难进行技术交流以取长补短。
因此选择新技术的自主光刻设备更多地是从技术储备和绕过西方的专利壁垒的考虑。在该技术发展成熟之前,不宜盲目的鼓吹。
反对的一方也有不少问题
12月1日网络上出现了一篇标题出现了“真相”字眼的文章,文章引用了来自匿名专家的观点,提出了不少富于建设性的问题。比如光刻分辨力22纳米就是10纳米芯片典型工艺的问题就是该文首先提出的。
不过在针对本次自主光刻设备是否能应用到现有的电子芯片生产中以及该自主光刻设备是否是“世界首台”的质疑中,该行业匿名专家的批评显得过于机械和严厉了。
首先对于能否应用到现有电子芯片生产中的问题,该文章的说法是不能。据他所引用的匿名专家所说:“这个技术和我们熟悉的半导体集成电路完全无关,无法应用在集成电路领域”“适用于特殊应用,类似的应用范围是光纤领域,5G天线,或者是他们自己演示的用于科研领域的单光子探测器”。
此外该文还引述了水木社区的一个帖子,发帖的网友展示了据说是截自知乎的一个图片。图片中的知乎用户宣称自己就来自于中科院光电所,该设备“可以做简单的线,点,光栅部件,拿来做刻芯片这种超级复杂的IC制造是完全没有可能的”,该用户同时还抱怨媒体胡乱报道进行炒作。
对于该文的质疑,笔者认为所谓知乎“深喉”爆料可信度不高,甚至目前连是不是真的有这样一个回答都是个问题,不值一驳。该匿名专家的话倒是非常符合该技术过去的一些应用情况。
那这次国产光刻设备呢?该文章在这里打了个马虎眼,说该技术只能生产简单元件,问题是简单元件本来就是模糊不清的定义。不过早在11月30日凌晨央视13频道的《午夜新闻栏目》中,该项目副总设计师胡松就说到该设备可以加工十毫米乘十毫米范围的芯片。
(该项目副总设计师披露的设备性能情况)
当然你要硬说面积100平方毫米的芯片是简单的元件也不是没有道理,不过大多数探测器和传感器也比这要小。甚至连苹果的A11芯片核心面积也就87.66平方毫米,而华为手机搭载的麒麟970芯片也就是96.72平方毫米。
用动辄200-300平方毫米甚至更高的桌面CPU或显卡芯片来衡量该国产设备,把不符合这一标准的芯片都叫做简单元件似乎有点过分苛刻了。
该文同时还指出该项目宣称的世界首台是有问题的。一方面文章继续引述知乎用户的话说“这个设备实现了激光束22nm(国内肯定是领先的,国际上肯定是落后的)”。一方面受访的匿名专家表示“这一技术并非中国首创,国外有很多实验室也做出了成品验证机,效果还优于中科院,甚至都达不到国际领先的程度”。
同时文章还把该专家提供的一幅国外同样使用表面等离子体光刻技术的图案与新闻中自主光刻设备的图案进行了对比,认为“从他们演示的图形就可以看到LWR粗糙,歪歪斜斜,图像保真度非常低,只能作为技术验证,不能作为真实生产,更不要说量产可能了”。
标签 半导体-
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- 责任编辑:孙武
- 最后更新: 2018-12-04 10:49:48
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