汪波北京大学深圳研究生院信息工程学院助理教授
2020年,经过17年的研发,EUV光刻机终于开始用于5纳米节点的工艺制造。然而,光刻精度即将达到极限,对于半导体产业的未来,人们早已开始寻找其他解决路径,这可以概括为“扩展摩尔”和“超越摩尔”。[全文]