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中科院、上微自主研制成功新型光刻机 有望局部实现国产化替代
关键字: 光刻机国产光刻机中科院上海微电子光刻工艺西方国家绞杀+在没有掌握核心设备生产能力+科研资金有限+技术团队流失的情况下,上海微电子的光刻机无法升级,所以到现在一直卡在90nm。
随着核高基02专项解决了光源、物镜等核心部件受制于人的情况,国产光刻机技术进步即将迎来一个发展期,虽然据小道消息称已经成功研发出55nm级别的光刻机,但由于有国外大厂淘汰的二手设备的存在,使国产光刻机基本不具备市场竞争力。
而本次上海微电子发布的平板显示光刻机,产品良率高达95%的高亮度LED光刻机,MEMS和功率器件光刻机主要针对LED制造和MEMS和功率器件等领域;同样,中科院光电技术研究所自主研制成功紫外纳米压印光刻机并非能取代ASML产品的存在,仅仅是在微纳流控芯片加工、微纳光学元件、微纳光栅、NMEMS器件等微纳结构器件的制备方面具有市场潜力。该光刻机有可能是瑞典Obducat公司的Eitre-3同类型产品,而且很有可能依旧处于实验室阶段。
最后,期待这些国产光刻机早日产业化,也祝愿国产光刻机能越做越好,缩短和ASML的技术差距。
(作者:铁流 微信公众号:tieliu1988)
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新华社成都3月23日电(记者李华梁)记者23日从中科院光电技术研究所获悉,该所微电子专用设备研发团队自主研制成功紫外纳米压印光刻机。
据中科院光电所微电子装备总体研究室主任胡松介绍,该所自主研发的新型光刻机,将纳米压印这一新型高分辨力光刻技术,与具有低成本、高效率特点的紫外光刻技术有机结合。
记者了解到,这套设备采用新型纳米对准技术,将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级。对准是光刻设备三大核心指标之一,是实现功能化器件加工的关键。该所在国家自然基金的连续资助下,完成基于莫尔条纹的高精度对准技术自主研发,取得专利20余项。
“该技术在光刻机中的成功应用突破了现有纳米尺度结构加工的瓶颈问题,为高精度纳米器件的加工提供了技术保障。”胡松说。
据悉,该设备可广泛应用于微纳流控晶片加工、微纳光学元件、微纳光栅、NMEMS器件等微纳结构器件的制备,具有广阔的应用前景,目前已完成初试和小批生产,并已在高校与企业用户中推广。
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