缺乏本土客户的长期验证与反馈，国产光刻机即使勉强造出来，也难以形成真正意义上的产业化能力。

ASML中国区总裁沈波透露，ASML在北京设有维修中心，这是全球6个维修中心之一，公司在中国的员工已超过2000人。这个细节很重要——即使是维护和调试已有设备，也需要如此庞大的技术团队。试想，如果中国真的独立开发光刻机，需要多少工程师？需要多少年的经验积累？

更令人深思的是，ASML明确表示，对于已经交付或安装在中国客户工厂的先进浸润式DUV系统，目前需要申请出口许可证才能为受到出口管制影响的系统提供服务。这意味着什么？意味着即使是已经买到手的设备，没有原厂的持续支持，也很难保持最佳运行状态。光刻机不是一锤子买卖，而是需要持续的技术支持和升级。

让我们再看看这位大V引用的所谓“证据”。他说ASML明确表示中国市场份额会大幅下降，并将此解读为中国大陆光刻机逐渐放量的信号。但事实是什么？ASML解释得很清楚：过去几年中国地区销售额占比较高（曾达46%），是因为ASML在消化积压订单，同时其他地区客户需求时间发生变化。预计2025年回归20%的历史正常水平，是因为中国客户需求逐渐得到满足，同时非中国地区市场回暖。

这里没有任何“中国光刻机替代”的含义，恰恰相反，这说明中国客户在大量囤货，趁着还能买到的时候尽可能多买。如果中国真有替代方案，为什么还要花费巨资购买ASML的设备？为什么ASML在中国的团队还在扩张？

华为手机供应的改善，确实是一个积极的信号，但将此直接等同于光刻机的突破，逻辑上站不住脚。芯片制造有很多途径可以优化：可以通过改进设计降低对先进制程的依赖，可以通过多芯片封装提高性能，可以通过优化现有设备的使用提高良率。华为的麒麟9000S采用7纳米工艺，使用的很可能是SMIC现有的DUV多重曝光技术，这种技术虽然可以实现7纳米，但成本高、良率低，与使用EUV的差距明显。

这位大V还提到中国芯片出口增长20%，以此证明中国半导体产业的强大。但他没有说明的是，这些出口主要是什么类型的芯片。事实上，中国出口的主要是成熟制程的芯片，如电源管理芯片、显示驱动芯片、MCU等，这些芯片使用28纳米以上的成熟工艺就可以生产，不需要最先进的光刻机。用成熟制程芯片的出口量来证明先进制程设备的突破，这种论证方式本身就是偷换概念。

更深层的问题是，这种“战略模糊”论调的流行，反映出一种危险的心态。技术发展需要实事求是，需要承认差距，需要踏实追赶。如果沉浸在“我们已经突破了，只是不说”的幻想中，如何能够正确评估现状？如何能够制定合理的发展策略？如何能够有效配置资源？

半导体产业的发展确实需要某种程度的信息保护，但这种保护应该是基于真实进展的谨慎，而不是用模糊性掩盖差距。当一个产业的讨论充斥着“据说”、“可能”、“应该”这样的词汇，当每一个间接信号都被过度解读为“重大突破”，这个产业的发展环境就是不健康的。

ASML在2024年第三季度的新增订单为26亿欧元，其中14亿欧元为EUV光刻机订单，虽然低于市场预期，但仍显示出强劲需求。这些订单不是来自中国——因为中国买不到EUV，而是来自台积电、三星、英特尔等有能力购买最先进设备的企业。这才是真实的产业格局：在最先进的制程节点上，差距不是在缩小，而是在拉大。

光刻机的研发是一个系统工程，需要的不仅是资金投入，更需要时间积累。ASML从1984年成立到2019年推出首台量产EUV光刻机，用了35年时间。这35年不是简单的技术攻关，而是伴随着整个产业链的共同成长。光学系统需要蔡司这样的顶级供应商，光源系统需要Cymer这样的专业公司，每一个关键部件背后都是一个产业生态。

中国半导体产业的发展确实值得肯定。在封测、设计、部分制造环节，中国企业已经具备了相当的竞争力。但在光刻机这样的核心设备上，差距是客观存在的。承认差距不是自卑，而是理性；夸大成就不是自信，而是自欺。

当我们站在ASML的进博会展台前，看着那些我们能买到的中端设备，应该想到的不是“我们不需要你了”，而是“我们还有很长的路要走”。技术追赶是一场马拉松，不是百米冲刺。在这场马拉松中，清醒比激情更重要，务实比口号更有用。

今年8月，上海芯上微装第500台步进光刻机成功交付，主要用于后道封装。

半导体产业的未来属于那些能够直面现实、持续投入、踏实积累的国家和企业。中国大陆有这个能力，但前提是要有正确的认知。当舆论场充斥着“弯道超车”、“换道超车”这样的词汇时，我们更应该记住：在科技领域，没有捷径可走。每一个看似简单的突破背后，都是无数工程师日以继夜的努力，都是整个产业生态的支撑。

从ASML在进博会展示XT:260封装光刻机这件事，我们应该读出的不是“中国光刻机已经突破”的臆想，而是产业竞争的真实图景：在可预见的未来，国际合作仍然是半导体产业发展的主旋律，技术封锁可以延缓但无法阻止中国的进步，但同样，情绪化的自我麻醉也无助于缩小真实的技术差距。

这位大V说，“光刻机是拿来生产产品的，而不是用来展示的”。这话没错，但问题是，如果连生产产品的能力都还不具备，又何谈不展示？真正的实力不需要“战略模糊”来包装，真正的自信不需要自我催眠来维持。当中国真正掌握先进光刻机技术的那一天，相信不需要任何人来论证和辩解，产业链的反应会说明一切。

在那一天到来之前，我们需要的是清醒、务实和坚持。少一些煽情的口号，多一些扎实的工作；少一些想象的突破，多一些真实的进展。这才是对中国半导体产业真正的支持，这才是对那些在实验室里奋斗的工程师们真正的尊重。

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